Titan silikalit

Titan silikalit-1 (TS-1) ZSM-5 ga izomorf bo'lib, ikkalasi ham MFI topologik tuzilishiga tegishli. Shuning uchun ular o'nta halqali o'zaro teshikli kanallar tizimiga ham ega. Farqi shundaki, ZSM-5 molekulyar elakda ramka kremniy atomlarining bir qismi bir xil kristall panjaradagi alyuminiy atomlari bilan almashtirilgan bo'lsa, TS-1 da bir qator ramka kremniy atomlari bir xil kristall panjaradagi titan atomlari bilan almashtiriladi. TS-1 tarkibidagi titanium atomlari vodorod peroksidni faollashtirishi mumkin, shu bilan alkenlarning epoksidlanishi va sikloheksanonning amoksidlanishi mumkin. Bundan tashqari, TS-1 va suyultirilgan vodorod periksdan tashkil topgan katalitik tizim, shuningdek, spirtlar va alkanlarning tanlab oksidlanishiga, shuningdek, fenolning gidroksillanish reaktsiyasiga olib kelishi mumkin.

Oq kukun

Teshik tuzilishi: MFI

Diafragma (nm): 0,56-0,58

Si/Al: 45-80

BET sirt maydoni (m²/ g): 350 dan katta yoki unga teng

Nisbiy kristallik (%): 95 dan katta yoki teng

Na2O vazni (%): 0,1 dan kam yoki unga teng

Quritishdagi yo'qotish Wt(%): 5 dan kam yoki teng

Nisbiy kristallik: 95% min

SiO2/TiO2:30-200

Ilova: Sikloheksanon{0}}oksim sintezining oksidlanish reaksiyasi,

etil spirti, olefin, toʻyingan uglevodorod, epoksidlanish, piridinning oksidlanishi va aromatik uglevodorodlarning gidroksillanishi va boshqalar.

1. Turli Si / Ti nisbati nano TS-1 molekulyar elak mahsulotlari (DNT) Asosiy mahsulot ma'lumotlari:

● Kristal o'lchami: 300 nm dan kam yoki unga teng;

● SiO2/TiO2 nisbati tanlanadigan diapazon: 30 - 200;

● Ishlash afzalliklari: yuqori samarali titan tarkibi, yaxshi katalizator faolligi barqarorligi;

● Qo'llash sohalari: olefin epoksidatsiyasi, sikloheksanon ammoximatsiyasi, spirtli oksidlanishi, to'yingan uglevodorod oksidlanishi, aromatik moddalarning gidroksillanishi, piridin oksidlanishi va boshqalar.

2. Turli kristal o'lchamli mikron TS-1 molekulyar elak mahsulotlari (DMT) Asosiy mahsulot ma'lumotlari:

● Kristal o'lchami tanlanadigan diapazon: 1-10 mikron;

● SiO2/Al2O3 nisbati tanlanadigan diapazon: 30 - 120;

● Ishlash afzalliklari: tor kristall hajmi taqsimoti, ishlov berish oson;

● Qo‘llash sohalari: TS-1 ishtirokidagi turli reaksiyalar uchun ishlatilishi mumkin, ayniqsa gaz-qattiq reaksiyalar, masalan, propilen gaz fazasi epoksidlanishi uchun mos keladi.

• Nisbiy kristallik: min 95%
• Teshik hajmi (nm): 0,56-0,58
• Si/Al nisbati: 20-45
• BET sirt maydoni (m2/g): 350 dan katta yoki unga teng
• Nisbiy kristallik (%): 95 dan katta yoki unga teng
• Qoldiq natriy (%): 0,1 dan kam yoki unga teng
• Olovni yo'qotish (%): 5 dan kam yoki teng
• SiO2/TiO2: 30-200